ASMLCEO:賣給中國的光刻機,落後8代,是10年前的產品了

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ASML總裁富凱最近攤牌了:賣給中國的光刻機比最新型號落後了整整8代,技術水平倒退回2013年,整整10年的代差。

他們既不想讓中國渴死,更不想讓中國喫飽。但對於我們來說在這場關於國運的芯片戰爭中,任何妥協都是在給自己挖坑。

算計到了骨子裏:爲什麼是“10年”這個數?

很多人覺得只要能買到浸潤式DUV就不算被“卡脖子”,但ASML總裁富凱揭開了真相。他口中的“微妙平衡點”其實就是一場精準的降維打擊。

賣給中國的設備,數值孔徑(NA)落後了整整8代,使得技術水準停留在2013到2014年銷往西方的水平。10年的時間差,足以在芯片性能上拉開幾個時代的距離。

爲什麼要留這10年的口子?富凱的邏輯和黃仁勳、比爾·蓋茨如出一轍:不能封得太狠。,因爲封鎖太嚴會逼出中國自研的狠活。單中國擁有14億人口,絕不會接受在技術上被長久卡住。一旦中國徹底擺脫依賴,西方將永久失去這個龐大的市場。

所以他們的策略是“適度輸出”——給你的東西,必須比你自研的稍微先進那麼一點點。這樣做的目的很陰毒,就是爲了誘導中國企業產生“買比造划算”的錯覺。通過持續供應舊設備,賺走中國企業的利潤的同時延緩中國產業的升級步伐。

把中國芯片製造死死圈在28納米及以上的成熟工藝領域,讓你能造汽車、手機和機器人的常用芯片,但絕不讓你碰7納米以下的高端門檻。

這就是所謂的“賺安全的錢”。這種“可控依賴”本質上是想把中國變成全球產業鏈裏的低端打工仔。

光刻機是芯片製造的“心臟”,佔設備成本20%以上,消耗30%的工藝時間。ASML作爲全球唯一的極紫外(EUV)光刻機生產商目前在全球市場上獨佔鰲頭。

第五代EUV採用13.5納米極紫外光,單臺價值1.2億歐元,包含10萬個精密零件,涉及全球5000多家供應商。

西方深知中國短時間內難以集齊這全球智慧的結晶,所以纔敢如此肆無忌憚地玩弄“平衡術”。

然而,這種算計的前提是中國願意“被養懶”,但2023年的政策劇變徹底打碎了這場溫水煮青蛙的迷夢。

隨着美國升級管制,重點指向7納米及更先進工藝,荷蘭迅速跟進,擴大了對華技術管制範圍。這標誌着西方已經撕下了“適度輸出”的僞善面具,進入了全面絞殺階段。

這種出爾反爾的行爲正在讓ASML自己感到恐懼。富凱擔心,如果西方過度收緊限制,將中國逼至絕境,中國可能會反過來向西方出口這些產品。歷史已經無數次證明來自外部的封鎖不僅沒能扼殺中國的進步,反而成了中國企業的“興奮劑”。

既然不講武德,那就把800億“廢鐵”拖回來

荷蘭政府最近發佈的管控新規,引發了全球半導體行業的劇烈震動。荷蘭政府明令禁止ASML向中國出口核心DUV設備,甚至計劃對維修服務施加約束。

此前中國企業在2023年上半年突擊進口了價值超過50億美元的設備,數量突破1400臺。這些支持14納米及以上工藝的設備原本是中國芯片產能的基本盤。

但現在,這些已經交付的設備正面臨淪爲“廢鐵”的風險。ASML曾承諾提供長達10年的維護服務,包括軟件升級和現場技術支持,如今因法規變動單方面違約,導致零部件供應中斷。

截至2024年中,已有工廠的光刻機光源模塊出現故障,導致生產效率直接下降了15%。

這些設備總價值超過800億美元,一旦失去售後保障,中國企業的損失將極爲沉重。於是,中方反擊了:要求ASML回購相關設備。

合法權益的維護終須依靠實力支撐,合同絕非一紙空文。如果ASML不能履行合同義務,那就必須爲違約行爲買單。

這種強硬表態讓ASML陷入了前所未有的兩難境地。若遵守荷蘭的管制,將失去龐大的中國市場;若想維持合作,又難以承受美國的壓力。

這種信用崩塌的後果是災難性的。ASML股價當日重挫8.2%,分析師預測其2025年營收將萎縮12%。當初爲了配合美國封鎖而拋出的“算盤”,最後砸在了自己的腳上。

西方的這種霸道行徑正嚴重衝擊國際產業鏈和供應鏈的穩定。2024年下半年,中國行業協會已開始整理採購合同,覈算經濟損失,爲後續維權行動做準備。

我們敦促荷方秉持市場原則,尊重契約精神。當商業信譽被政治意志踐踏,受損的不只是ASML,更是整個西方的技術壟斷體系。

光刻機由光源、鏡頭、雙工作臺、浸沒系統等核心組件構成,技術含量極高。由於售後中斷,中國企業也被迫加速自主配套。

一邊是ASML面臨回購和信譽減損的泥潭,另一邊是中國企業在陣痛中清醒,徹底拋棄了對外部維護的幻覺。這種“你封我,我就自己造”的精神正成爲中國產業升級的底色。

富凱的擔憂正在成爲事實:封鎖成了催化劑。西方希望中國落後5年、10年還是15年?這個問題已經不再由他們決定。

隨着售後違約事件的發酵,中國全產業鏈的自主化進程正在被推向一個全新的速度,這是西方始料未及的“自食其果”。

2026年的死命令:誰纔是最後的收割者?

中國已經明確計劃到2030年掌控全球近三分之一的晶圓代工產能。爲了實現這個宏偉目標,光刻機的國產化替代正在全面加速。

上海微電子(SMEE)已經實現了實質性突破,其推出的28納米光刻機良率已達到90%,精度與ASML的中端產品持平。

更具殺傷力的消息是SMEE在2025年提交了EUV相關技術專利申請,並計劃於2026年實現量產,目標直指打破ASML在高端市場的壟斷局面。

雖然EUV含有超過10萬個零件,研發任重道遠,但中國已在步進掃描工作臺等核心技術上取得重大突破,成爲繼荷蘭後世界第二家擁有該項技術的國家。

全產業鏈的突圍不僅限於光刻機本體。北方華創的離子注入機、中微公司的刻蝕設備已用於5納米生產線,刻蝕精度可達頭髮絲直徑的500萬分之一。

新凱來展示的30餘款半導體設備,覆蓋了刻蝕、薄膜沉積等全流程環節。萬里眼更是推出的超高速實時示波器,性能提升5倍,直接打破了西方的壟斷。

中芯國際同樣持續發力,在穩定量產28納米的同時7納米制程的攻關已進入最後衝刺階段。這種全方位的突破讓西方的“10年代差”論逐漸失效。

當中國自研設備能覆蓋80%的市場需求時,ASML的“平衡術”將徹底崩盤。因爲沒有誰會爲了買一個“比自研強一點”的舊型號,去承受被單方面停服的風險。

現在的競爭已經演變爲“生態系統”的較量。ASML雖然有全球供應鏈的支持,但中國也正在建立自己的技術生態。

從高精度鏡頭、激光光源到掩膜版,每一個短板都在加速彌補。華大九天通過併購整合完善了EDA軟件佈局進一步補齊了產業鏈環節。

西方的封鎖正反過來激發中國更強烈的自主慾望。從“兩彈一星”到北斗系統,中國早已習慣在圍堵中走向巔峯。富凱的判斷中有一點是對的:中國絕不會停下腳步。

中國芯片的發展路徑清晰、步伐堅定,實現自主可控已是勢不可擋。

真正的強者從來不靠施捨,而是掌握自己的命運。當2026年的鐘聲敲響,那臺屬於中國自己的高端光刻機量產時,西方的“10年算計”將徹底淪爲歷史的笑柄。

荷蘭作爲貿易依存度極高的國家正在中美之間艱難維持平衡,而中國則在壓力下完成了產業的全面升級。收割者與被收割者的位置,正在悄然調換。

參考資料:

阿斯麥CEO出主意:中國不可能接受被“卡脖子”,不如讓其保持依賴-觀察者網-2025.12.12

ASMLCEO警告:過度封鎖或加速中國技術自主-新浪科技-2025.12.16

向全世界宣佈!中國計劃2026年量產光刻機,荷蘭阿斯麥CEO首次表態-新浪財經-2025.12.19

ASML攤牌光刻機銷售策略落後10年背後是雙重算計-新浪財經-2025.12.16

光刻機又被卡脖子,國產替代研發加速-格隆匯-2022.07.08

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